Полировальная паста на основе арсенида галлия

Наша компания обладает зрелой компоновкой продукции и накопленными технологиями в области шлифовки и полировки сапфировых, карбидкремниевых и монокристаллических кремниевых подложек, что позволяет быстро выравнивать различные подложки, удовлетворяя при этом основные требования заказчиков к поверхности, такие как TTV, LTV и Warp, повышая эффективность обработки, продлевая срок службы, а также снижая затраты и повышая эффективность за счет усовершенствования материалов и процессов.

Введение:

Эта полировальная паста на основе арсенида галлия (GaAs) представляет собой прецизионный химико-механический планаризатор (CMP), предназначенный для сверхгладкой отделки поверхности пластин GaAs. Созданная с использованием оптимизированных абразивных частиц и химических активаторов, она достигает совершенства поверхности на атомном уровне, сохраняя при этом строгий стехиометрический контроль. Паста эффективно минимизирует поверхностные дефекты и подповерхностные повреждения, что критически важно для сохранения уникальных электронных и оптоэлектронных свойств GaAs.

Применение:

Необходимая для производства полупроводниковых соединений, паста широко используется в производстве высокочастотных устройств, лазерных диодов и фотоэлектрических ячеек. Она обеспечивает прецизионную обработку подложек GaAs для 5G/6G-коммуникаций, спутниковых технологий и передовых фотонных приложений. Формула отвечает строгим требованиям как для промышленного массового производства, так и для исследовательских приложений в микроэлектронной и оптоэлектронной промышленности.

Фабрика и отгрузка